A fogbeültetési felület módosításának módszerei2

2.1. Az implantátum felületének módosítása kémiai és fizikai tényezők kezelésével

2.1.1 Titán-plazma kezelés

A titanoplazma-porlasztás folyamata egy plazmakeret létrehozása, egy titánpor bejuttatása, a részecskék megolvasztása és diszpergálása, a plazmaáramlásban való mozgásuk és az implantátum felszínén történő lerakódás. Mivel olvadt állapotban vannak, a titán részecskék megérintik a felületet, összeolvasztják és összefésülik egymással, mintegy 30 mikron vastagságú filmet képeznek. Annak érdekében, hogy az implantátum felületének egyenletes legyen, a felületi réteg vastagságának 40-50 mikronnak kell lennie. Ennek az eljárásnak köszönhetően körülbelül 7 μm átlagos érdességű durva felület képződik, ami jelentősen növeli az implantátum felületét.

2.1.2. Levegő-csiszoló (lőfúvás) kezelés.

Az implantátum felülete kialakításának egyik általánosan elfogadott módja egy kifejlesztett durva topográfiával a levegő-abrazív kezelés. Az eljárás abból áll, hogy a kemény kerámia részecskéket az implantátum felületére nagy sűrűséggel befecskendezik egy sűrített levegő sugárban. A felületi érdesség foka elsősorban az alkalmazott részecskék diszperziójától függ. Ismeretes, hogy az implantátum felületének szennyezése megzavarhatja az oszteointegratív folyamatokat, ezért a kezelendő szubsztrátum szennyeződésének elkerülése érdekében szükséges, hogy az anyag, amelyből a pelleteket elkészítették, kémiailag stabil. A levegőcsiszolási anyagként alumínium-oxidot, titán-oxidot és kalcium-foszfát kerámiák részecskéit alkalmazzák.

2.1.3. Az implantátum felületének savas kezelése (savas maratás)

2.1.4. Az implantátumok eloxálásával (anódos oxidáció)